知識星球(星球名:芯片制造與封測技術(shù)社區(qū),點擊加入)里的學(xué)員問:麻煩講講電鍍速率是怎么算的?一直稀里糊涂晶圓電鍍的鍍速經(jīng)驗值?
2價金屬,如銅金屬,在1ASD,1min的條件下,生長0.2um
什么是ASD?
ASD = A/dm2 = 安培每平方分米,即:電流密度(Current Density)的單位。它表示單位面積上施加的電流強(qiáng)度.沉積速率、結(jié)晶質(zhì)量、應(yīng)力、均勻性都受到電流密度的直接影響。
晶圓電鍍速度的推導(dǎo)法拉第第一定律法拉第的研究表明,在電鍍過程中,陰極上還原物質(zhì)析出的量與所通過的電流強(qiáng)度和通電時間成正比。
公式為:
m=KQ=KIt
式中m一析出金屬的質(zhì)量;
K—比例常數(shù);
Q—通過的電量;
1—電流強(qiáng)度;
t—通電時間。
而Q=nZF,n= 生成物質(zhì)的摩爾數(shù) [mol];Q= 總電量 [C];z = 化合價;F = ?96485.332 12...那么則有:It=m/M*Z*F而m=p.s.h,I=D.ss為電鍍面積,h為電鍍高度,D為電流密度,M為摩爾質(zhì)量,p為金屬的密度,p銅=?8.92 g/cm3=8920g/dm3代入得:D.s.t=(p.s.h)/M*Z*FDt=p.h/M*Z*Fh=DtM/(pZF)=DtM/(8920*192970)如果D=1ASD,t=1min=60s,M=63.5h=1*60*65/192970=0.00000227dm=0.227um
考慮到電流效率,我們的經(jīng)驗值鍍銅在0.2um左右。其他金屬的電鍍速率,以此類推。
如有需要1.2L全套微型電鍍槽,可聯(lián)系Tom