引言
在碳化硅襯底厚度測(cè)量過(guò)程中,測(cè)量探頭溫漂是影響測(cè)量準(zhǔn)確性的重要因素。深入剖析其誤差機(jī)理并研究有效的補(bǔ)償技術(shù),對(duì)提升碳化硅襯底厚度測(cè)量精度、保障半導(dǎo)體器件制造質(zhì)量具有關(guān)鍵意義。
誤差機(jī)理
材料熱膨脹導(dǎo)致探頭結(jié)構(gòu)變化
測(cè)量探頭內(nèi)部包含多種材料部件,如金屬、陶瓷等。不同材料的熱膨脹系數(shù)各異,當(dāng)環(huán)境溫度發(fā)生變化時(shí),各部件會(huì)因熱膨脹程度不同產(chǎn)生相對(duì)位移 。例如,探頭的金屬外殼與陶瓷傳感器基座熱膨脹系數(shù)存在差異,溫度升高時(shí),金屬外殼膨脹幅度大于陶瓷基座,會(huì)擠壓傳感器,改變傳感器的初始位置與測(cè)量姿態(tài),進(jìn)而導(dǎo)致測(cè)量碳化硅襯底厚度時(shí)出現(xiàn)誤差 。這種結(jié)構(gòu)變化不僅影響探頭的線性度,還會(huì)使測(cè)量基準(zhǔn)發(fā)生偏移,造成測(cè)量值偏離實(shí)際厚度。
傳感器性能隨溫度波動(dòng)
探頭內(nèi)的傳感器(如電容式、電感式傳感器)性能會(huì)受溫度影響 。以電容式傳感器為例,其電容值與極板間距、介電常數(shù)等參數(shù)相關(guān),溫度變化會(huì)使極板材料熱膨脹,改變極板間距,同時(shí)也會(huì)影響極板間介質(zhì)的介電常數(shù) 。當(dāng)溫度升高,極板間距增大,電容值減小,測(cè)量電路輸出信號(hào)隨之改變,導(dǎo)致測(cè)量結(jié)果出現(xiàn)偏差 。此外,傳感器內(nèi)部的電子元件,如放大器、濾波器等,其性能參數(shù)(如增益、帶寬)也會(huì)隨溫度波動(dòng),進(jìn)一步加劇測(cè)量誤差 。
補(bǔ)償技術(shù)
硬件補(bǔ)償
硬件補(bǔ)償可從優(yōu)化探頭結(jié)構(gòu)和電路設(shè)計(jì)兩方面入手 。在探頭結(jié)構(gòu)上,選用熱膨脹系數(shù)相近的材料制作探頭部件,或采用特殊的熱補(bǔ)償結(jié)構(gòu),如雙金屬片補(bǔ)償結(jié)構(gòu),利用兩種不同熱膨脹系數(shù)的金屬片組合,當(dāng)溫度變化時(shí),雙金屬片產(chǎn)生變形,抵消因溫度引起的探頭部件相對(duì)位移 。在電路設(shè)計(jì)中,增加溫度補(bǔ)償電路,如使用溫度傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)探頭溫度,將溫度信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào),通過(guò)電路計(jì)算對(duì)傳感器輸出信號(hào)進(jìn)行修正 。例如,采用負(fù)反饋電路,根據(jù)溫度變化反向調(diào)整電路參數(shù),補(bǔ)償因溫度引起的傳感器性能變化 。
軟件補(bǔ)償
軟件補(bǔ)償基于大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)建立數(shù)學(xué)模型 。通過(guò)在不同溫度條件下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)碳化硅襯底進(jìn)行多次測(cè)量,記錄溫度與測(cè)量誤差數(shù)據(jù),利用回歸分析、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)等算法擬合出溫度與測(cè)量誤差的關(guān)系模型 。在實(shí)際測(cè)量時(shí),系統(tǒng)實(shí)時(shí)獲取探頭溫度,代入模型計(jì)算出對(duì)應(yīng)的誤差補(bǔ)償值,對(duì)測(cè)量結(jié)果進(jìn)行修正 。例如,使用 BP 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型,將溫度作為輸入層變量,測(cè)量誤差作為輸出層變量,通過(guò)訓(xùn)練使網(wǎng)絡(luò)學(xué)習(xí)溫度與誤差之間的復(fù)雜映射關(guān)系,從而實(shí)現(xiàn)高精度的軟件補(bǔ)償 。
高通量晶圓測(cè)厚系統(tǒng)運(yùn)用第三代掃頻OCT技術(shù),精準(zhǔn)攻克晶圓/晶片厚度TTV重復(fù)精度不穩(wěn)定難題,重復(fù)精度達(dá)3nm以下。針對(duì)行業(yè)厚度測(cè)量結(jié)果不一致的痛點(diǎn),經(jīng)不同時(shí)段測(cè)量驗(yàn)證,保障再現(xiàn)精度可靠。?
我們的數(shù)據(jù)和WAFERSIGHT2的數(shù)據(jù)測(cè)量對(duì)比,進(jìn)一步驗(yàn)證了真值的再現(xiàn)性:
(以上為新啟航實(shí)測(cè)樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
該系統(tǒng)基于第三代可調(diào)諧掃頻激光技術(shù),相較傳統(tǒng)雙探頭對(duì)射掃描,可一次完成所有平面度及厚度參數(shù)測(cè)量。其創(chuàng)新掃描原理極大提升材料兼容性,從輕摻到重?fù)絇型硅,到碳化硅、藍(lán)寶石、玻璃等多種晶圓材料均適用:?
對(duì)重?fù)叫凸?,可精?zhǔn)探測(cè)強(qiáng)吸收晶圓前后表面;?
點(diǎn)掃描第三代掃頻激光技術(shù),有效抵御光譜串?dāng)_,勝任粗糙晶圓表面測(cè)量;?
通過(guò)偏振效應(yīng)補(bǔ)償,增強(qiáng)低反射碳化硅、鈮酸鋰晶圓測(cè)量信噪比;
(以上為新啟航實(shí)測(cè)樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
支持絕緣體上硅和MEMS多層結(jié)構(gòu)測(cè)量,覆蓋μm級(jí)到數(shù)百μm級(jí)厚度范圍,還可測(cè)量薄至4μm、精度達(dá)1nm的薄膜。
(以上為新啟航實(shí)測(cè)樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
此外,可調(diào)諧掃頻激光具備出色的“溫漂”處理能力,在極端環(huán)境中抗干擾性強(qiáng),顯著提升重復(fù)測(cè)量穩(wěn)定性。
(以上為新啟航實(shí)測(cè)樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
系統(tǒng)采用第三代高速掃頻可調(diào)諧激光器,擺脫傳統(tǒng)SLD光源對(duì)“主動(dòng)式減震平臺(tái)”的依賴,憑借卓越抗干擾性實(shí)現(xiàn)小型化設(shè)計(jì),還能與EFEM系統(tǒng)集成,滿足產(chǎn)線自動(dòng)化測(cè)量需求。運(yùn)動(dòng)控制靈活,適配2-12英寸方片和圓片測(cè)量。