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    • 1、國產光刻膠進程
    • 2、我國科研團隊突破新型光刻膠技術
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最新,國產光刻膠通過驗證!

2024/10/17
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據(jù)“中國光谷”消息,光谷企業(yè)近日在半導體專用光刻膠領域實現(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現(xiàn)配方全自主設計,有望開創(chuàng)國內半導體光刻制造新局面。

該產品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內稱之為“妖膠”的國外同系列產品UV1610,T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,通過驗證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經過刻蝕,下層介質的側壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

據(jù)悉,太紫微公司由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng)立。該團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發(fā),在電子化學品領域深耕二十余載。武漢光電國家研究中心是科技部于2017年批準建設的第一批,也是唯一的一批6個國家研究中心之一,其前身為2003年獲批的武漢光電國家實驗室(籌)。

據(jù)天眼查信息顯示,太紫微公司成立于2024年5月31日,注冊資本200萬元,實控人為朱明強,最終受益股份77%。除了朱明強本人外,太紫微公司的另外兩家股東,湖北高碳光電科技有限公司、武漢市馬斯洛普管理咨詢合伙企業(yè),朱明強則分別持股100%和8%。

對于此次突破,部分行業(yè)人士表示,在KrF系列光刻膠產品中,T150 A對標的UV1610產品算是“比較常用的膠”,需求量比較大,目前對于UV1610產品北京科華、徐州博康等國內廠商有能力生產。

1、國產光刻膠進程

目前,我國集成電路用半導體光刻膠尤其是高端產品仍高度依賴進口,其中日本是我國光刻膠第一大進口來源國。據(jù)中國海關總署數(shù)據(jù),2023年我國感光化學品進口總額21.77億美元,從日本進口額11.49億美元,占比52.8%。至2024年1-6月份,從日本進口額為6.38億美元,同比增長16.7%。其中今年Q2季度進口總額3.38億美元,同比增長15.6%,環(huán)比增長12.6%。日本進口平均占比約51.5%,近年來占比處于歷史高位。

從全球光刻膠市場格局看,日美廠商占據(jù)了全球光刻膠市場大部分份額,日本合成橡膠(JSR)、日本東京應化、美國杜邦-羅門哈斯、日本信越化學、日本住友化學、日本富士電子材料六家大廠高度壟斷了半導體光刻膠的大部分市場。并且目前日韓、歐美主要廠商已實現(xiàn)高端制程光刻膠的量產。作為對比,我國光刻膠國產化率還較低。綜合行業(yè)各方數(shù)據(jù)顯示,KrF光刻膠整體國產化率不足5%,ArF光刻膠整體國產化率不足 1%。

我國光刻膠加速發(fā)展可以追溯到21世紀。2018年5月,國家科技重大專項中的極紫外光刻膠項目順利通過國家驗收,標志著中國在高端光刻膠領域的重大進步。此后2019年11月,8種"光刻膠及其關鍵原材料和配套試劑"入選工信部的重點新材料指導目錄,并且我國先后發(fā)布《新材料關鍵技術產業(yè)化實施方案》、《國務院關于印發(fā)鼓勵軟件產業(yè)和集成電路產業(yè)發(fā)展若干政策的通知》等鼓勵性、支持性政策,推動我國國產光刻膠加速突破。

而從國內光刻膠產業(yè)鏈相關企業(yè)發(fā)展情況看,國產光刻膠在近年來發(fā)展迅速。目前,中國已經成為全球最大的光刻膠市場之一。國內有數(shù)十家企業(yè)涉足光刻膠領域,其中一些企業(yè)已經取得了不錯的成績。讓我們來認識幾個代表性的"選手":

2、我國科研團隊突破新型光刻膠技術

今年4月,九峰山實驗室、華中科技大學組成聯(lián)合研究團隊,依托九峰山實驗室工藝平臺,支持華中科技大學團隊突破“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”技術。該成果以“Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists”為題,在國際頂級刊物Chemical Engineering Journal上發(fā)表。這一具有自主知識產權的光刻膠體系已在產線上完成了初步工藝驗證,并同步完成了各項技術指標的檢測優(yōu)化,實現(xiàn)了從技術開發(fā)到成果轉化的全鏈條打通。

據(jù)悉,該研究通過巧妙的化學結構設計,以兩種光敏單元構建“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”,最終得到光刻圖像形貌與線邊緣粗糙度優(yōu)良、space圖案寬度值正態(tài)分布標準差(SD)極?。s為0.05)、性能優(yōu)于大多數(shù)商用光刻膠,且光刻顯影各步驟所需時間完全符合半導體量產制造中對吞吐量和生產效率的需求。據(jù)悉,該研究成果有望為光刻制造的共性難題提供明確的方向,同時為EUV光刻膠的著力開發(fā)做技術儲備。

徐州博康

近期,據(jù)徐州博康信息化學品有限公司博康光刻膠事業(yè)部總經理杜光宇披露,徐州博康已成功開發(fā)ArF/KrF單體及光刻膠、I線光刻膠、封裝光刻膠、電子束光刻膠等系列產品。具備干法ArF及濕法ArF光刻膠的技術能力,干法ArF可應用于90nm/65nm/55nm節(jié)點。濕法ArF可應用于40nm/28nm節(jié)點,在現(xiàn)有技術產品基礎上積極開發(fā)14nm及以下工藝節(jié)點應用的更先進的濕法ArF光刻膠材料。

公開資料顯示,徐州博康成立于2010年3月,是專注于中高端光刻膠及相關原材料研發(fā)制造的國家高新技術企業(yè),目前在江蘇邳州、浙江東陽有兩個生產基地。其中,徐州市邳州生產基地占地200畝,于2021年上半年完成建設,已正式投產,可年產1100噸光刻材料及10000噸電子級溶劑。今年9月14日,根據(jù)采招網(wǎng)信息,徐州博康信息化學品有限公司年產1406噸光刻材料及152噸光刻膠技改項目備案。

彤程新材

據(jù)彤程新材披露的上半年財報顯示,彤程新材半導體光刻膠業(yè)務實現(xiàn)營業(yè)收入1.28億元,同比增長54.43%;得益于產業(yè)的復蘇、公司新品的大規(guī)模上量以及彤程電子生產廠區(qū)的投產和用戶驗證推進,2024年上半年公司半導體業(yè)務發(fā)展迅速,銷售收入增長率超過50%,為歷史最高點。

據(jù)悉,中高檔集成電路光刻膠產品已成為彤程新材產品的核心力量,從產品分類上看,2024年上半年公司KrF光刻膠產品增長率超過60%;化學放大型I線光刻膠得益于存儲行業(yè)的飛速發(fā)展,增長率超過500%,是增長最快的產品序列。除了傳統(tǒng)優(yōu)勢產品外,2024年上半年公司已導入多款高分辨KrF、ArF光刻膠(含干式和浸潤式)和BARC底部抗反射涂層等產品在客戶端驗證,并陸續(xù)通過客戶產品認證,其中ArF光刻膠已開始形成銷售。

在溶劑領域,彤程新材借由高純試劑的生產能力,實現(xiàn)半導體暨顯示光刻膠產品的溶劑自產模式。2024年上半年高規(guī)光刻膠配套試劑EBR G5等級已實現(xiàn)正式量產出貨,并且提供高規(guī)槽車并導入客戶端開始驗證,預計下半年逐步上量。目前公司是國內唯一能自產自銷,并達量產規(guī)模高純試劑EBR G5等級的本土光刻膠供應商。而在研發(fā)方面,彤程新材I線光刻膠部分新產品在重點12寸客戶獲得驗證通過并得到快速上量。

晶瑞電材

是國內最早規(guī)模量產光刻膠公司之一,其全資子公司蘇州瑞紅早在1993年開始光刻膠生產,承擔并完成了國家02專項i線光刻膠產品開發(fā)及產業(yè)化項目。據(jù)悉,到目前已經擁有g線、i線、KrF等上百個型號產品。i線光刻膠已向國內中芯國際、長鑫存儲等知名大尺寸半導體廠商大批量供貨,多款KrF光刻膠已量產并供應多家半導體客戶。同時還啟動了ArF光刻膠研發(fā)工作正式啟動。公司目前光刻膠產品,有30%用于面板LCD領域,70%用于半導體領域。

除了歷史悠久,經驗豐富之外,公司在光刻膠方面有一個很大優(yōu)勢,就在于自己擁有5臺光刻機,這一點與程彤新材旗下子公司北京科華類似。公司2020年購買了阿斯麥1900 Gi型光刻機,2021年下半年購入了尼康KrF S207光刻機及配套設備。并已建成ArF和KrF光刻實驗室,有5臺光刻機為核心的光刻膠研發(fā)測試平臺,可為公司產品研發(fā)測試、客戶驗證等提供全面的核心設備保障。

上海新陽

上海新陽在光刻膠產品方面覆蓋較為全面,涉及i線、KrF、ArF干法以及ArF浸沒式光刻膠。公司致力于突破高端光刻膠技術,特別是在ArF浸沒式光刻膠方面,產品已達到較高技術水平,適用于28納米及以上的集成電路制造工藝。

今年3月,上海新陽發(fā)布公告稱公司擬以增資方式投資浙江新盈電子材料有限公司(以下簡稱“浙江新盈”)。據(jù)悉,浙江新盈設立時注冊資本金為3500萬元,現(xiàn)上海新陽認繳出資500萬元對該公司增資。此次增資完成后,公司直接持有浙江新盈12.5%的股份。據(jù)悉,浙江新盈具有光刻膠樹脂等原材料產品研發(fā)團隊,具備光刻膠樹脂等原材料研發(fā)、生產工藝技術及質量管控、客戶技術服務能力等專有技術。

南大光電

今年6月,南大光電在最新的機構調研中透露,公司始終堅持從原材料到產品的完全自主化研發(fā)路線。其光刻膠研發(fā)中心已具備研制功能單體、功能樹脂、光敏劑等關鍵原材料的能力,實現(xiàn)了從光刻膠原材料到配套材料的全部自主化。在光刻膠領域,南大光電已取得了顯著進展。據(jù)了解,公司研發(fā)的多款ArF光刻膠正在國內主要集成電路芯片制造企業(yè)進行驗證,并已通過驗證的三款ArF光刻膠實現(xiàn)了少量銷售,質量穩(wěn)定。

此外,還有多家企業(yè)在光刻膠領域進行研發(fā)和生產,如廈門恒坤新材料、鼎龍股份、萬華電子材料、珠?;?、蘇州潤邦半導體、威邁芯材、微芯新材、河北凱諾中星等等。也在為光刻膠生產提供重要的原材料支持。這些企業(yè)的不斷發(fā)展,推動了國內光刻膠市場的快速增長。

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