無(wú)源光器件

• 1um以下的光刻深度,凹槽深度和寬度測(cè)量

  一、白光干涉儀測(cè)量原理 白光干涉儀利用白光干涉原理，通過(guò)測(cè)量反射光與參考光之間的光程差來(lái)精確獲取待測(cè)表面的高度信息。其測(cè)量精度可達(dá)到納米級(jí)別，非常適合用于測(cè)量1um以下的光刻深度、凹槽深度和寬度。 二、測(cè)量步驟與注意事項(xiàng) 樣品準(zhǔn)備： 確保待測(cè)樣品表面干凈無(wú)塵，無(wú)油污或其他污染物，因?yàn)檫@些會(huì)影響干涉圖樣的清晰度和測(cè)量精度。 對(duì)于光刻和凹槽結(jié)構(gòu)，需要特別注意保持其完整性，避免在測(cè)量過(guò)程中造成損傷。 儀

  萬(wàn)智光學(xué)

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  2024/12/27

  無(wú)源光器件

  

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