半導(dǎo)體電子束光刻、量檢測(cè)設(shè)備供應(yīng)商匯總(2025)
電子束(EB)的波長(zhǎng)遠(yuǎn)小于光線,所以將其應(yīng)用在光刻、量檢測(cè)領(lǐng)域相較于傳統(tǒng)光學(xué)方法能夠明顯提升分辨率。但是由于其速度緩慢、生產(chǎn)效率低下,導(dǎo)致其在半導(dǎo)體量產(chǎn)環(huán)節(jié)的應(yīng)用受限但是隨著晶體管密度增加、半導(dǎo)體圖形線寬越來(lái)越小,電子束工具的應(yīng)用在未來(lái)會(huì)越來(lái)越多然而由于其技術(shù)門(mén)檻高且市場(chǎng)空間相對(duì)較小