2023 | 第七屆國際先進光刻技術研討會舉辦通知

第七屆國際先進光刻技術研討會

（IWAPS 2023）

近年來，集成電路產業(yè)已經成為世界各國越來越重視的戰(zhàn)略性產業(yè)，尤其在中國，集成電路產業(yè)受到了前所未有的關注，并在政策和資本的推動下獲得了蓬勃發(fā)展?；谶@樣的形勢，國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業(yè)界、學術界的資深技術專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術交流平臺，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰(zhàn)。

自2017年以來，IWAPS已經在全國各地成功舉辦六屆。會議投稿、會議報告與參會人數(shù)逐年增加，行業(yè)反響熱烈，業(yè)已成為國內高端光刻技術領域的重要會議。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收錄，接收論文將被送檢IEEE Xplore與EI。歡迎大家踴躍報名、投稿！

第七屆IWAPS將于2023年10月25-26日于浙江麗水舉行

請于2023年10月24日報到

歡迎各位學術和產業(yè)屆的朋友蒞臨指導，積極投稿演講

參會名額有限，有意者請及時報名參會

官網報名鏈接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

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-主辦單位-

-承辦單位-

-協(xié)辦單位-

-往屆精彩回顧-

鏈接：首屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕

鏈接：第二屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕

IWAPS 2019 南京

鏈接：第三屆國際先進光刻技術研討會在南京開幕

IWAPS 2020 成都

鏈接：第四屆國際先進光刻技術研討會在成都開幕

IWAPS 2021 佛山

鏈接：第五屆國際先進光刻技術研討會在廣東佛山開幕

IWAPS 2022 北京 線上

鏈接：第六屆國際先進光刻技術研討會順利閉幕

-征稿范圍-

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

-往年論文集-

IWAPS 2020：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding

IWAPS 2023 會議籌備工作已經展開

更多信息，敬請關注會議官網

www.iwaps.org/cn

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https://www.iwaps.org/cn/index/10

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