計算光刻

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光刻工藝過程可以用光學(xué)和化學(xué)模型，借助數(shù)學(xué)公式來描述。光照射在掩模上發(fā)生衍射，衍射級被投影透鏡收集并會聚在光刻膠表面，這一成像過程是一個光學(xué)過程；投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后導(dǎo)致光刻膠局部可溶于顯影液，這是化學(xué)過程。計算光刻就是使用計算機來模擬、仿真這些光學(xué)和化學(xué)過程，從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑，指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。

光刻工藝過程可以用光學(xué)和化學(xué)模型，借助數(shù)學(xué)公式來描述。光照射在掩模上發(fā)生衍射，衍射級被投影透鏡收集并會聚在光刻膠表面，這一成像過程是一個光學(xué)過程；投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后導(dǎo)致光刻膠局部可溶于顯影液，這是化學(xué)過程。計算光刻就是使用計算機來模擬、仿真這些光學(xué)和化學(xué)過程，從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑，指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。收起

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