光掩膜版

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  • 最新：全球光刻掩模板產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)商匯總（76家）
    光刻行業(yè)是真火！不僅光刻機火、光刻膠火，連帶著光刻掩模版行業(yè)也跟著受人矚目。相關(guān)行業(yè)活動也是層出不窮我不久前剛剛發(fā)布了一版光刻掩模版及配套材料的行業(yè)供應(yīng)商信息，點擊量不錯。而且還有不少朋友給予我反饋，幫我修改了幾個錯誤，還新增了一些供應(yīng)商信息
    最新：全球光刻掩模板產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)商匯總（76家）
  • 光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！
    在半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用類似于傳統(tǒng)照相的底片，通過控制光線透射或阻擋，將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片制程不斷微縮至納米級，掩模技術(shù)也在持續(xù)演進。其中，
    光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！
  • 超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
    1月2日，我國掩膜版廠商眾凌科技發(fā)布了兩項成果：一是"全國產(chǎn)"大寬幅FMM用Invar（因瓦合金）金屬薄帶試量產(chǎn)成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM產(chǎn)品的試量產(chǎn)成功。
    超精細金屬掩膜版FMM實現(xiàn)全國產(chǎn)化
  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
  • 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
    我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破